【深铭易购】资讯：自9月1日起，荷兰之前发布的半导体设备限制令将正式实施。此限制明确规定，ASML的所有浸没式光刻机，包括TWINSCAN NXT: 2000i以及更高级别的系统，将受到限制，除非持有相应许可证。唯一例外的是TWINSCAN NXT: 1980Di，这款浸没式光刻机可以继续出口到中国，而EUV技术则被完全限制。

然而，ASML对此进行了澄清，表示在2023年内，所有的DUV（深紫外）光刻机，包括NXT: 2000i以及更高级别的NXT: 2050i和NXT: 2100i，都可以向中国出售。ASML表示，他们已经向荷兰政府申请了相应许可证，有效期覆盖了2023年，但自2024年1月1日起将失效。此后，ASML只能销售DUV光刻机中的TWINSCAN NXT: 1980Di以及其他成熟的光刻机。

事实上，今年初，国内已经计划囤积ASML的光刻机。数据显示，2023年1-7月，我们从荷兰进口的光刻机金额高达25.86亿美元，同比增长了64.8%，比去年全年还要多。仅在7月份，光刻机的进口金额就达到了6.26亿美元，同比去年7月份增长了8倍左右。

这一禁令对中国的晶圆厂有多大影响呢？

目前，ASML销售的四款浸没式光刻机分别是NXT: 1980Di、NXT: 2000i、NXT: 2050i和NXT: 2100i，数字型号越大，机器越先进。从技术参数来看，无论是NXT: 2000i、NXT: 1980Di还是更高级的NXT: 2050i和NXT: 2100i，它们的分辨率都是38纳米，数值孔径都是1.35NA，波长都是193纳米，经过水的折射后，等效于134纳米。

因此，从理论上讲，它们都可以制造相同工艺的芯片，只是晶圆处理速度不同，这影响产能，但对工艺影响不大。此外，浸没式光刻机最高能够制造7纳米工艺的芯片，不论是相对落后的NXT: 1980Di还是最先进的NXT: 2100i，最高都只能达到7纳米工艺水平。因此，中国的晶圆厂无论如何购买，都能够制造最高7纳米工艺的芯片，但无法进入5纳米工艺，因为5纳米工艺需要EUV技术，这在短时间内无法获得。

因此，中国内地许多制造商将能够购买的DUV光刻机视为关键选择，关键取决于ASML的供货量是否足够。